輝光放電質(zhì)譜是一種分析方法，使用輝光放電源作為離子源與質(zhì)譜儀連接進行。輝光放電質(zhì)譜在許多學(xué)科中得到了重要的應(yīng)用。由于其直接固體注射，它已成為分析無機固體材料中雜質(zhì)的有力方法，尤其是高純度金屬、合金和其他材料中的雜質(zhì)。 
輝光放電質(zhì)譜原理：輝光放電質(zhì)譜儀由輝光放電離子源和質(zhì)譜儀組成。輝光放電屬于低電壓放電。同時，樣品在GD源中的霧化和電離在兩個不同的區(qū)域進行，即陰極暗區(qū)near樣品表面和陽極附近的負輝光區(qū)域，這也大大降低了基體效應(yīng)。GD電源的供電方式可分為直流輝光放電（DC-GD）、射頻輝光放電和脈沖輝光放電三種。其中，直流電源使用最為廣泛，另外兩種與質(zhì)譜的結(jié)合仍處于實驗室階段，沒有商用儀器。 
輝光放電質(zhì)譜具有以下特點及功能：直接固態(tài)取樣、離子源電離能力強、高靈敏度和分辨率、測量過程穩(wěn)定、具有良好的再現(xiàn)性和再現(xiàn)性、周期表中幾乎所有元素（C、O、H、N除外）都可以定性或定量分析，輝光放電質(zhì)譜可以直接檢測無機粉末、涂層/基材和非導(dǎo)電材料，無需樣品制備，并提供各種元素的信息； 

輝光放電質(zhì)譜分析的應(yīng)用： 
1、高純度材料分析 

高分辨率輝光放電質(zhì)譜分析具有較強的干擾去除能力，動態(tài)范圍寬，可實現(xiàn)恒定、痕量和超痕量分析。特別適用于高純度物質(zhì)的分析。 
2、深度分析 

深入分析對研究薄層材料具有重要意義。 
 3、導(dǎo)線材料分析 

直流質(zhì)譜不能直接分析非導(dǎo)電材料。有兩種常用的分析非導(dǎo)電材料的方法：第二陰極法和混合法。第二陰極方法對第二陰極的材料有嚴格的要求。